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论文参考文献电子文献

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论文参考文献电子文献

引用的是电子期刊。参考文献分为一般文献和电子文献两类。一般文献类型:专著,会议论文集,报纸文章,期刊文章,学位论文,报告,标准,专利,论文集中的析出文献,杂志。电子文献类型:数据库,计算机,电子公告。电子文献的载体类型:互联网,光盘,磁带,磁盘。电子文献格式,作者姓名,题名[文献类型标志(含文献载体标志)见其它]出版地:出版者,出版年(更新或修改日期),获取路径。

参考文献具体怎么写,要根据老师发的要求来写参考文献,最好不要在网上直接百度,要用书中的知识写。

文献检索论文参考文献有期刊、报告、专著、学术论文等。不同类型的参考文献的格式也是大有不同的,大家在写参考文献的时候一定要多加注意,不要忽略细节问题。传统参考文献的查找方式就是通过图书馆,图书馆图书是查找传统参考文献的主要途径。期刊文章这是同学们在写论文的时候最常参考的文献类型之一。它的标准参考文献标注规范是:【序号】主要责任者,文献题名【J】,刊名,年,卷(期):起止页码。参考文献的标注论文集、专著、学位论文和报告。这类参考文献的标注规范是:【序号】主要责任者、文献题名【文献类型标识】、出版地、出版者、出版年、起止页码(可选)。随着科技的发展,电子文献越来越多地应用于同学们的生活之中。所以电子文献的写法也是必不可少的。标注规范是:【序号】主要责任者、电子文献题名【电子文献及载体类型标识】、电子文献的出版或获得地址、发表更新日期/引用日期。

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网上的文章属于“互联网[OL]”类型参考文献。示例:王明亮.关于中国学术期刊标准化数据库系统工程的进展[EB/OL]。文献类型包括但不限于以下三大类:(1)参考文献类型:专著[M],论文集[C],报纸文章[N],期刊文章[J],学位论文[D],报告[R],标准[S],专利[P],论文集中的析出文献[A]。(2)电子文献类型:数据库[DB],计算机[CP],电子公告[EB]。(3)电子文献的载体类型:互联网[OL],光盘[CD],磁带[MT],磁盘[DK]。对于英文参考文献,还应注意以下两点:(1)作者姓名采用"姓在前名在后”原则,具体格式是:姓,名字的首字母.如:Malcolm Richard Cowley应为:Cowley,MR,如果有两位作者,第一位作者方式不变;之后第二位作者名字的首字母放在前面,姓放在后面,如:Frank Norris与Irving Gordon应为:Norris,F & IG(2)书名、报刊名使用斜体字,如:Mastering English Literature,English W以上内容参考:百度百科-参考文献

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就是你在写论文或写文章时参考的资料来源

写论文在最后需要把你参考的文献都写出来,就是参考文献,格式:作者1,作者2,。。题名文章来源(杂志名称等),年,卷(期):文章页码(标点符号要用英文格式的)参考文献张震巍,陈飞虎发展中国家基本药物获得情况不容乐观国外医学卫生经济分册, 2003, 20(3): 141-143赵红英OTC营销队伍的组建及终端管理商业经济与管理,2002,9(4):13-14刘剑锋浅谈OTC药品营销策略药学进展,2004, 28(12):570-572高环成论我国OTC药品营销策略中国经贸导刊,2010,(10)石海盛 OTC市场的营销及终端管理 天津药学 , 2001, (04)刘雪梅中国OTC市场营销策略分析中国市场,2007,(Z1)

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按照如此:序号,主要责任者,题名,其他题名信息,文献类型标志、文献载体标志,出版地,出版者,出版年,更新或修改日期,引用日期,获取和访问路径(网址)。注明:[N/OL]为[文献类型标志、文献载体标志]。论文一般由题名、作者、摘要、关键词、正文、参考文献和附录等部分组成,其中部分组成(例如附录)可有可无。要求准确、简练、醒目、新颖。目录是论文中主要段落的简表。(短篇论文不必列目录)。

一般他们是写在一起的[EB/OL],如满意,还望采纳一、联网OLOL是在线的英语缩写,即online二、联机网上数据(database online)OL是在线的英语缩写,DB为数据库英文缩写,即database。 通常是在参考文献中,指在互联网数据库(也就是通常意义上的上网搜索)上搜集到的文献。参考文献中完整写法为:[DB/OL]三、网上电子公告即[EB/OL]——网上电子公告(electronic bulletin board online),一般的理解就是从论坛(BBS)等交流平台上搜集到的信息。

论文格式: 纸张为A4纸,页边距上5cm,下5cm,左0cm,右5cm。论文由内容摘要与关键词、论文正文和参考文献组成。一级标题“一、”;二级标题“(二)”;三级标题“”。 [内容摘要]和[关键词]均为宋体小四号加粗,内容宋体小四号,行距25cm。正文:(1) 标题:黑体二号居中,上下各空一行。(2) 正文:小四号宋体,每段起首空两格,回行顶格,行距为多倍,25。(3) 一级标题格式:一级标题:序号为“一、”,小三号黑体字,独占行,起首空两格,末尾不加标点。(4) 二标题序号为“(一)”,四号宋体,加粗,独占行,起首空两格,末尾不加标点。(5)三级标题:序号为“”,起首空两格,空一格后接排正文,小四号宋体,加粗。(6) 四、五级标题序号分别为“(1)”和“①”,与正文字体字号相同,可根据标题的长短确定是否独占行。若独占行,则末尾不使用标点,否则,标题后必须加句号。每级标题的下一级标题应各自连续编号。(7) 注释 (根据需要):正文中需注释的地方可在加注之处右上角加数码,形式为“①、②……”(即插入脚注),并在该页底部脚注处对应注号续写注文。注号以页为单位排序,每个注文各占一段,用小5号宋体。书写格式参考文献标注的位置。 参考文献标标注方法和规则。 参考文献标标注的格式。2007年8月20日在清华大学召开的“综合性人文社会科学学术期刊编排规范研讨会”决定,2008年起开始部分刊物开始执行新的规范“综合性期刊文献引证技术规范”。该技术规范概括了文献引证的“注释”体例和“著者—出版年”体例。不再使用“参考文献”的说法。以上内容参考:百度百科-参考文献

引用的是电子期刊。参考文献分为一般文献和电子文献两类。一般文献类型:专著,会议论文集,报纸文章,期刊文章,学位论文,报告,标准,专利,论文集中的析出文献,杂志。电子文献类型:数据库,计算机,电子公告。电子文献的载体类型:互联网,光盘,磁带,磁盘。电子文献格式,作者姓名,题名[文献类型标志(含文献载体标志)见其它]出版地:出版者,出版年(更新或修改日期),获取路径。

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我整理了一下参考格式,大家可以参考参考!一、文献格式的快速引用(一)参考文献的类型参考文献的类型(即引文出处)以单字母方式标识在文献名后并以方括号括起,具体类型标识如下:M ——专著、普通图书 C ——论文集 N ——报纸文章 J ——期刊文章D ——学位论文 R ——研究报告 S ——标准 P ——专利对于不属于上述的文献类型,采用字母“Z”标识。(二)参考文献的格式及实例1、专著类【格式】[序号]作者书名[M]出版地:出版社,出版年份:起止页码【举例】[1] 张志建严复思想研究[M] 桂林:广西师范大学出版社,[2] 马克思恩格斯全集:第1卷[M] 北京:人民出版社,[3] [英]蔼理士性心理学[M] 潘光旦译注北京:商务印书馆,[4]葛家澍,林志军现代西方财务会计理论[M]厦门:厦门大学出版社,2001:[5] Gill, R Mastering English Literature [M] London: Macmillan, 1985: 42-2、论文集【格式】[序号]作者篇名[C]出版地:出版者,出版年份:起始页码 【举例】[1] 伍蠡甫西方文论选[C] 上海:上海译文出版社,1979:12-[2] Spivak,G Victory in Limbo[C] Urbana: University of Illinois Press, 1988, 271-[3] Almarza, GG Teacher Learning in Language Teaching [C] New York: Cambridge University P 50-3、报纸类【格式】[序号]作者篇名[N]报纸名,出版日期(版次)【举例】[6] 李大伦经济全球化的重要性[N] 光明日报,1998-12-27(3)[7] French, W Between Silences: A Voice from China[N] Atlantic Weekly, 1987-8-15(33)4、期刊类【格式】[序号]作者篇名[J]刊名,出版年份,卷号(期号):起止页码【举例】[1] 王海粟浅议会计信息披露模式[J]财政研究,2004,21(1):56-[2] 夏鲁惠高等学校毕业论文教学情况调研报告[J]高等理科教育,2004(1):46-[3] 郭英德元明文学史观散论[J] 北京师范大学学报(社会科学版),1995(3)[4] Heider, ER& DCO The structure of color space in naming and memory of twolanguages [J] Foreign Language Teaching and Research, 1999, (3): 62–5、学位论文【格式】[序号]作者篇名[D]出版地:保存者,出版年份:起始页码【举例】[1] 张筑生微分半动力系统的不变集[D]北京:北京大学数学系数学研究所,1983:1-[2] 刘伟汉字不同视觉识别方式的理论和实证研究[D]北京:北京师范大学心理系,6、研究报告【格式】[序号]作者篇名[R]出版地:出版者,出版年份:起始页码【举例】[1] 冯西桥核反应堆压力管道与压力容器的LBB分析[R]北京:清华大学核能技术设计研究院,1997:9-[2] 白秀水,刘敢,任保平 西安金融、人才、技术三大要素市场培育与发展研究[R]西安:陕西师范大学西北经济发展研究中心,7、标准【格式】[序号]标准编号,标准名称[S]【举例】[1] GB/T 16159—1996, 汉语拼音正词法基本规则[S]8、专利【格式】[序号]专利所有者题名[P]国别:专利号,发布日期【举例】[1] 姜锡洲一种温热外敷药制备方案[P]中国专利:881056073,9、条例【格式】[序号]颁布单位条例名称发布日期【举例】[15] 中华人民共和国科学技术委员会科学技术期刊管理办法[Z]1991—06—0510、译著【格式】[序号]原著作者 书名[M]译者,译出版地:出版社,出版年份:起止页码【举例】[5] 昂温G,昂温P S.外国出版史[M].陈生铮,译.北京:中国书籍出版社,1988对于英文参考文献,还应注意以下两点:①作者姓名采用―姓在前名在后‖原则,具体格式是:姓,名字的首字母 如:Malcolm Richard Cowley 应为:Cowley, MR,如果有两位作者,第一位作者方式不变,&之后第二位作者名字的首字母放在前面,姓放在后面,如:Frank Norris 与Irving Gordon应为:Norris, F & IG;②书名、报刊名使用斜体字,如:Mastering English Literature,English Weekly。.二、文献格式详解我国发布GB 7714—87《文后参考文献著录规则》,规定采用“顺序编码制”和“著者出版年制”两种为我国著录文后参考文献的国家标准。按规定,在科技论文中,凡是引用前人(包括作者自己过去)已发表的文献中的观点、数据和材料等,都要对它们在文中出现的地方予以标明,并在文末列出参考文献表。(一)参考文献的引用、目的及作用抄写这些已发表过的、读者可以查找到的内容是毫无意义的。所以,在论文涉及到已有成果的地方,不去重抄已有的成果,而是指出登载这个成果文献(出处),这种做法叫做引用参考文献。引用了参考文献,就要在涉及前人成果的地方做一个标记,见到这个标记,读者就知道在这里引用了参考文献;按照这个标记在参考文献表中就能找到刊登这个成果的详细内容的文章。在正文中引用参考文献的地方加一个标记,称为参考文献的标注。标注的方法称为标注法。对于一篇完整的学术论文,参考文献的著录是不可缺少的。归纳起来,参考文献著录的目的与作用主要体现在以下5个方面:1、著录参考文献可以反映论文作者的科学态度和论文具有真实、广泛的科学依据,也反映出该论文的起点和深度。科学技术以及科学技术研究工作都有继承性,现时的研究都是在过去研究的基础上进行的,今人的研究成果或研究工作一般都是前人研究成果或研究工作的继续和发展;因此,在论文中涉及研究的背景、理由、目的等的阐述,必然要对过去的工作进行评价,著录参考文献即能表明言之有据,并明白交待出该论文的起点和深度。这在一定程度上为论文审阅者、编者和读者评估论文的价值和水平提供了客观依据。2、著录参考文献能方便地把论文作者的成果与前人的成果区别开来。论文报道的研究成果虽然是论文作者自己的,但在阐述和论证过程中免不了要引用前人的成果,包括观点、方法、数据和其他资料,若对引用部分加以标注,则他人的成果将表示得十分清楚。这不仅表明了论文作者对他人劳动的尊重,而且也免除了抄袭、剽窃他人成果的嫌疑。3、著录参考文献能起索引作用。读者通过著录的参考文献,可方便地检索和查找有关图书资料,以对该论文中的引文有更详尽的了解。4、著录参考文献有利于节省论文篇幅。论文中需要表述的某些内容,凡已有文献所载者不必详述,只在相应之处注明文献即可。这不仅精练了语言,节省了篇幅,而且避免了一般性表述和资料堆积,使论文容易达到篇幅短、内容精的要求。5、著录参考文献有助于科技情报人员进行情报研究和文摘计量学研究。(二)参考文献的著录原则及方法1、只著录最必要、最新的文献。著录的文献要精选,仅限于著录作者亲自阅读过并在论文中直接引用的文献,而且,无特殊需要不必罗列众所周知的教科书或某些陈旧史料。2、只著录公开发表的文献。公开发表是指在国内外公开发行的报刊或正式出版的图书上发表。在供内部交流的刊物上发表的文章和内部使用的资料,尤其是不宜公开的资料,均不能作为参考文献引用。3、引用论点必须准确无误,不能断章取义。4、采用规范化的著录格式。关于文后参考文献的著录已有国际标准和国家标准,论文作者和期刊编者都应熟练掌握,严格执行。根据GB 7714—87《文后参考文献著录规则规定采用“顺序编码制”和“著者出版年制”两种。其中,顺序编码制为我国科技期刊所普遍采用。顺序编码制是指作者在论文中所引用的文献按它们在文中出现的先后顺序,用阿拉伯数字加方括号连续编码,视具体情况把序号作为上角或作为语句的组成部分进行标注,并在文后参考文献表中,各条文献按在论文中出现的文献序号顺序依次排列。

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本科毕业设计(论文)  文献综述  院 (系):  专 业:  班 级:  学生姓名: 学 号:  年 月 日  本科生毕业设计(论文)文献综述评价表  毕业设计(论文)题目  综述名称 注意综述名称(综述内容中不要出现本课题怎么样等等)  评阅教师姓名 职称  评 价 项 目 优 良 合格 不合格  综述结构 01 文献综述结构完整、符合格式规范  综述内容 02 能准确如实地阐述参考文献作者的论点和实验结果  03 文字通顺、精练、可读性和实用性强  04 反映题目所在知识领域内的新动态、新趋势、新水平、新原理、新技术等  参考文献 05 中、英文参考文献的类型和数量符合规定要求,格式符合规范  06 围绕所选毕业设计(论文)题目搜集文献  成绩  综合评语:  评阅教师(签字):  年 月 日  文献综述: 小四号宋  空一行  标题 二号黑居中  空一行  1 XXX 三号黑  XXX 小四号宋,行距20磅  1 XXXX 小三号黑  XXX 小四号宋,行距20磅  1 XXX 四号黑  XXX 小四号宋,行距20磅  空一行  2 XXXX 三号黑  (空1行)  参 考 文 献  (空1行)  [要求按国标GB 7714—87《文后参考文献著录规则》书写,例如:]  [1] 袁庆龙,候文义.Ni-P合金镀层组织形貌及显微硬度研究[J].太原理工大学学报,2001,32(1):51-53 .(宋体五号,行距固定值20磅)  [2] 刘国钧,王连成.图书馆史研究[M].北京:高等教育出版社,1979:15-18,31.  下面的是我的文献综述  文献综述:  FTO透明导电薄膜的溅射法制备  1 前言  为了更好的开展毕业论文及毕业实验工作,在查找和阅读与《DSSC用FTO透明导电玻璃的溅射法制备》相关的文献和资料,完成撰写了本文献综述。随着科技的日趋成熟,导电玻璃的制备方法也越来越成熟,种类也衍生得越来越多。  本文章将对国内外的制备方法,种类,发展现状及趋势,工艺性能,退火处理对性能的影响等方面做一简要介绍。  2透明导电玻璃的种类及制备方法简介  1透明导电玻璃的种类  1 1 TCO导电玻璃  TCO(Transparent Conductive Oxide)玻璃,即透明导电氧化物镀膜玻璃,是指在平板玻璃表面通过物理或化学镀膜方法均匀的镀上一层透明的导电氧化物薄膜而形成的组件主要包括铟、锡、锌、铬的氧化物及其复合多元氧化物薄膜材料。  2 ITO透明导电玻璃  ITO透明导电玻璃全称为氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)透明导电膜玻璃,多通过ITO导电膜玻璃生产线,在高度净化的厂房环境中,利用平面磁控技术,在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。 ITO玻璃产品广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。  3FTO透明导电玻璃  FTO透明导电玻璃为掺杂氟的SnO2导电玻璃(SnO2:F),简称为FTO。FTO玻璃可以做为ITO导电玻璃的替换用品,广泛用于液晶显示屏,光催化,薄膜太阳能电池基底等方面,市场需求极大 FTO玻璃因其特殊性,在染料敏化太阳能电池,电致变色和光催化方面对其透光率和导电率都有很高的要求,其综合性能常用直属FTC来评价:FTC=T10/RS。T是薄膜的透光率,RS是薄膜的方阻值;在光学应用方面,则要求其对可见光有好的透射性和对红外有良好的反射性。对其基本要求是:①表面方阻低,②透光率高,③面积大、重量轻,④易加工、耐冲击。  2FTO透明导电玻璃制备方法  FTO透明导电玻璃的制备方法有,物理方法:溅射法、真空蒸发镀膜法、离子辅助沉积镀膜法等;化学方法:喷雾热解法、溶胶-凝胶法和化学气相沉积法等。目前适合批量生产且研发较多的有真空蒸发镀膜法、磁控溅射法、化学气相沉积法和喷雾热解等方法![1]化学气相沉积法和真空镀膜法制备的薄膜和玻璃基板的结合强度不够,溶胶-凝胶法制备的导电薄膜电阻较高。适合于批量生产且已经形成产业的工艺,只有磁控溅射法和溶胶-凝胶法。特别是,溅射法由于具有良好的可控性和易于获得大面积均匀的薄膜。  1磁控溅射法镀膜:  溅射镀膜(sputtering deposition)是指用离子轰击靶材表面,使靶材的原子被轰击出来,溅射产生的原子沉积在基体表面形成薄膜。溅射镀膜有二级、三级或四级溅射、磁控溅射、射频溅射、偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等装置。  目前最常用的制备CoPt 磁性薄膜的方法是磁控溅射法。磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。  2真空蒸发镀膜:  真空蒸发镀膜(vacuum vapor deposition)是在工作压强低于10-2 Pa,用蒸发器加热物质使之汽化蒸发到基片,并在基片上沉积形成固态薄膜的一种工艺方法。真空蒸发的加热方式主要有电阻加热蒸发、电子束加热蒸发、高频加热蒸发和激光加热蒸发等。对于镀制透明导电氧化物薄膜而言,其真空蒸发镀膜工艺一般有三种途径:(1)直接蒸发氧化物;(2)采用反应蒸发镀,即在蒸发金属的同时通入氧气进行化学反应生成金属氧化物;(3)对蒸发金属镀膜进行氧化处理。  3溶胶-凝胶法:  溶胶-凝胶法(so1-gel)是近年来发展起来的能代替高温固相合成反应制备陶瓷、玻璃和许多固体薄膜材料的一种新方法。它将金属醇盐或无机盐经溶液、溶胶、凝胶而周化,再将凝胶低温处理变为氧化物的方法,是应用胶体化学原理制各无机材料的一种湿化学方法。溶胶-凝胶工艺是一种制备多元氧化物薄膜的常用方法。按工艺可分为浸涂法和旋涂法。浸涂法是将衬底浸人含有金属离子的前驱体溶液中,以均匀速度将其提拉出来,在含有水分的空气中发生水解和聚合反应,最后通过热处理形成所需薄膜;而旋涂法则是通过将前体溶液滴在衬底后旋转衬底获得湿膜。  4化学气相沉积法:  化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态薄膜沉积在加热的固态衬底表面,是一种重要的薄膜制各方法。CVD法所选的反应体系必须满足:(1)在沉积温度下,反应物必须有足够的蒸汽压;(2)化学反应产物除了所需的沉积物为固态外,其余必须为气态;(3)沉积物的蒸汽压应足够低,以保证能较好地吸附在具有一定温度的基体上,但此法因必须制各具有高蒸发速率的铟锡前驱物而使生产成本较高。影响化学气相沉积薄膜的工艺参数很多,包括基体温度、气压、工作气体流量和反应物及其浓度等。  化学气相沉积技术的主要特点包括:设备及工艺简单、操作维护方便、灵活性强;适合在各种形状复杂的部件上沉积薄膜:由于设备简单,薄膜制备的成本也比较低。但是,薄膜的表面形貌很大程度上受到化学反应特性以及能量撒活方式的影响。  5喷雾热分解法:  喷雾热分解法是化学法成膜的一种,其过程与APCVD法比较相似。它是将前驱体溶液在高压载气的作用下雾化,然后输送到基片表面,在高温作用下,前驱体溶液发生一系列复杂的化学反应,在基片表面上得到需要的薄膜材料。而反应副产物一般是通过气相形式排出反应腔。常用的高压载气主要有:压缩空气、氮气、氩气等等。但是由于压缩空气中常含有大量的水蒸气,所以用氮气作为载气的情形比较多。如果需要在基片表面上发生分解反应,基片温度一般在300℃以上,在玻璃上制备FTO薄膜的基片温度一般为500℃。影响最终薄膜性能的喷涂参数有:载气压力、前驱体溶液流量、基片温度、喷口与基片的距离、喷枪移动速度等等[2]。在成膜过程中基材的温度、液体的流速、压缩气体的压力以及喷嘴到基材的距离等参数均可实现精确控制[3]。  3 FTO透明导电玻璃的研究现状、应用及发展趋势  1FTO透明导电玻璃的研究现状  自1907年Badeker首次报道了热氧化溅射的Cd薄膜生成半透明导电的CdO薄膜,引发了对透明导电氧化物(TCO)薄膜的研究。1950年前后出现了硬度高,化学稳定性好的SnO2基薄膜及综合光电性能优良的In2O3基薄膜,ZnO基薄膜的研究始于2O世纪80年代 。目前研究和应用较多的TCO薄膜主要有SnO2、In2O3。和ZnO基三大体系,其中以In203:Sn(ITO),SnO2 :F(FTO)和ZnO:Al(ZAO)最具代表性,这些薄膜具有高载流子浓度(1018~1021cm-3)和低电阻率(10-3~1O-4Ω•cm),且可见光透射率8O%~90%,使这些薄膜已被广泛应用于平面显示、建筑和太阳光伏能源系统中。[4] 已经商业化应用的TCO薄膜主要是In2O3Sn(ITO)和SnO2:F(FTO)2类,ITO由于其透明性好,电阻率低,易刻蚀和易低温制备等优点,一直是显示器领域中的首选TCO薄膜。FTO薄膜由于其化学稳定性好,生产设备简单,生产成本低等优点在节能视窗等建筑用大面积TCO薄膜中,具有很大的优势[5]。  Sn02:F(FTO)掺杂体系是一种n型半导体材料,表现出优良的电学和光学性能,并且耐腐蚀,耐高温,成本低,化学稳定性好,是现在研究较多,应用范围较广的一类TCO薄膜。苗莉等[6]采用喷雾热解法,以NH4F、SnCl2•2H20为原料,在普通玻璃衬底上制备出了方块电阻最低达到2Ω/口,可见光透光率为95%的FTO薄膜,且薄膜晶粒均匀,表面形貌平整致密。Yadav等[7]采用喷雾热解法,制备了不同厚度的FTO薄膜,最低电阻率达到91 X 10-4 Ω•cm。Moholkar等[8]采用喷雾热解法,制备了不同掺F浓度的FTO薄膜,研究了氟的掺杂浓度对Sn02薄膜的光学,结构和电学性能的影响。中国科学院等离子体物理研究所的戴松元小组[9、10]将FTO用于染料敏化太阳电池的透明电极,并获得较高的光电转换效率。  射频溅射:  射频溅射的基本原理是射频辉光放电。国内外射频溅射普遍选用的射频电源频率为13.56MHz,以防止射频信号与无线电信号的相互干扰。通常直流溅射的基本过程是,从阴极发出的电子,经过电场的加速后获得足够的能量,可以使气氛气体发生电离。正离子在电场作用下撞击阴极表面,溅射出阴极表面的原子、分子到衬底表面发生吸附、凝聚,最终成膜。  直流溅射不能用于绝缘体材料的薄膜制备,因为绝缘材料在受到正离子轰击时,靶材表面的正离子无法中和,使靶表面的电位逐渐升高,导致阴极靶与阳极问的电场减小,当靶表面电位上升到一定程度时,可以使气体无法电离,溅射无法进行。而射频溅射适合于任何一种类型的阻抗耦合,电极和靶材并不需要是导体,射频溅射非常适合于制备半导体、绝缘体等高熔点材料的薄膜。在靶材表面施加射频电压,当溅射处于上半周时,由于电子的质量比离子的质量小很多,故其迁移率很高,用很短时间就可以飞向靶面,中和其表面积累的正电荷,从而实现对绝缘材料的溅射,并且在靶表面又迅速积累起了大量的电子,使其表面因空间电荷而呈现负电位,导致在射频溅射正半周期,也可吸引离子轰击靶材。从而实现了在电压正、负半周期,均可溅射。磁场的作用是将电子与高密度等离子体束缚在靶材表面,可以提高溅射速度。[11]  用JPGF一450型射频磁控溅射系统在玻璃衬底上制备SnO2:F薄膜,系统的本底真空度为10-3Pa.溅射所用陶瓷靶是由纯度为99%SnO2和NH4F,粉末经混合、球磨后压制成坯,再经1300℃烧结而成,靶中NH4F的重量比是78%,用纯度为99.99% 的氩气和氧气作为工作气体,由可控阀门分别控制气体的流量。溅射过程中,控制真空室内氩气压强为1Pa,氧分压为5—5 Pa,靶与衬底间的距离为5cm.溅射功率为150W,溅射时间为25 min,衬底温度为100℃。用RIGAKU D/MAX—yA型x射线衍射(XRD)仪(CuKa辐射波长,154178 nm)测试样品的结构,用APHM一0190型原子力显微镜(AFM)观测样品的表面形貌,使用 rv一1900型紫外可见光分光光度计测量样品的吸收谱,使用激发源为325 nm的He—Cd激光器的光谱仪测量样品的室温光致发光谱,使用普通的万电表测试它的导电性(前提是尽量保持测量条件的一致性)。  2FTO透明导电玻璃的应用  FTO透明导电玻璃具有优良的光电性能,被广泛用于太阳能电池的窗口材料、低损耗光波导电材料及各种显示器和非晶硅太阳能电池中作为透明玻璃电极等,与生活息息相关。  1在薄膜太阳电池上的应用  太阳能电池是利用光伏效应,在半导体p-n结直接将太阳光的辐射能转化成电能的一种光电器件。TCO薄膜是太阳电池关键材料之一,可作为染料敏化太阳电池(dye-sensitized solar cells,DSCS)[12]等的透明电极,对它的要求是:具有低电阻率(方块电阻Rsh约为15Ω/□);高阳光辐射透过率,即吸收率与反射率要尽可能低;化学和力学稳定性好的特点。在薄膜太阳电池中,透明导电膜充当电极,具有太阳能直接透射到作用区域几乎不衰减、形成p-n结温度较低、低接触电阻、可同时作为防反射薄膜等优点。  2在显示器上的应用  显示器件能将外界事物的光、声、电等信息,经过变换处理,以图像、图形、数码、字符等适当形式加以显示。显示技术的发展方向是平板化。在众多平板显示器中,薄膜电致发光显示由于其主动发光、全固体化、耐冲击、视角大、适用温度宽、工序简单等优点,引起广泛关注,并发展迅速。FTO薄膜具有可见光透过率高、电阻率低、较好的耐蚀性和化学稳定性,因此被广泛用作平板显示器的透明电极。  3在气敏元件上的应用  气体传感器是把气体的物理、化学性质变换成易处理的光、电、磁等信号的转换元件。半导体气体传感器是采用金属氧化物或金属半导体氧化物材料做成的元件,与气体相互作用时产生表面吸附或反应,引起以载流子运动为特征的电导率或伏安特性或表面电位变化。二氧化锡薄膜气敏器件具有灵敏度高、响应速度和恢复速度快、功耗低等特点,更重要的是容易集成。随着微电子技术的发展,传感器不断向智能化、微型化方向发展。[13]  4在建筑幕墙玻璃及透明视窗上的应用  喷雾热解法制各的FTO薄膜能用于阳光节能玻璃,对可见光高透射,但对红外光高反射,其反射率大于70%。让阳光中可见光部分透过,而红外部分和远红外反射。阳光中的可见光部分对室内采光是必需的,但可将红外部分的热能辐射反射回去,能有效调节太阳光的入射和反射。利用FTO薄膜在可见光区的高透射性和对红外光的高反射性,可作为玻璃的防雾和防冰霜薄膜。  3 FTO透明导电玻璃的发展趋势  随着LCD的商品化、彩色化、大型化和TFT的驱动或太阳能电池的能量转变效率的提高,人们对透明导电氧化物(TCO)薄膜的要求越来越严格,至少需要满足如下条件:  (1)导电性能好,电阻率较低;  (2)可见光内透光率较高:  (3)镀膜温度更接近室温,能大面积均匀地镀膜;  (4)膜层加工性能好,可以进行高精度低损伤腐蚀;  (5)热稳定性及耐酸、碱性优良,硬度高;  (6)表面形状良好,没有针孔;  (7)价格较低,可实现大规模工业化生产。  目前,TCO薄膜已普遍达到下列水平:膜厚为500 nm的情况下电阻率在10-4 Ω•cm数量级,在可见光区透光率达80%,载流子迁移率一般达到40cm2/(v•s)。虽然TCO薄膜的性能指标可以满足当前应用需要,但随着器件性能的不断提升,对TCO薄膜提出了更高的性能要求。一些学者提出了TCO薄膜发展的一个量化的前景指标:禁带宽度>3 eV,直流电阻率~5×10-5 Ω•cm,可见光段在自由电子作用下的吸收系数<2x103 cm-1,载流子迁移率>100 cm2/(v•s)。  几十年来,人们一直在努力提高透明导电薄膜的透明性和导电性。SnO2:F(TFO)透明导电薄膜由于其兼备低电阻,高的可见光透过率,近红外高的反射率,优良的膜强度和化学稳定性等优点,越来越受到人们的青睐,必将在平板显示器件、建筑物玻璃和气敏传感器等众多领域中得到更广泛的应用。利用溅射法制备FTO透明导电玻璃它的生产工艺简单,操作方便,利于控制。成本较低,原料易得,但在制备过程中NH4F加热分解放出有污染的氮氧化物和氨烟,这对以后商业化生产造成了很大的制约。所以对原料的改进和污染的控制方面还有待开发。  4 制备条件对膜结构及光电性能的影响  长安大学材料科学与工程学院段理等做了磁控溅射制备银掺杂ZnO薄膜结构及光电性质研究实验,发表了文献[14],并在文献14中得出了1——3的结论。  1制备条件对膜厚的影响  文献中采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了银掺杂ZnO薄膜,当薄膜淀积时间从30rain延长到90min时,薄膜的厚度几乎按照线性关系从约270nm增加到820nm,即薄膜的淀积速率大致稳定在9nm/min左右,为匀速生长。溅射功率与膜厚呈线性增长,及沉淀速率与溅射功率大致呈线性关系。  2制备条件对膜结构的影响  晶体质量随溅射功率的增大而降低,随溅射气压的增大而降低。  3制备条件对膜光电性质的影响  在固定溅射总气压的条件下,增大氧分压可以增强薄膜的紫外发光强度,增大薄膜的载流子浓度。  4 退火对薄膜的影响  退火能显著提高薄膜晶体质量,并增强薄膜的PL发光强度和导电能力,其原因是退火能使银离子完成对锌离子的替代从而形成受主。[15]  5 退火后处理对膜结构与成分的影响  光敏薄膜的光电、形貌性能与退火处理密切相关,退火处理优化了薄膜表面形貌、减小了光学能隙、增大了薄膜的导电率和载流子迁移率。光敏薄膜性能的优化,有利于增大聚合物太阳电池的填充因子、开路电压和短路电流,对于提高其能量转换效率、改善器件光伏性能具有非常重要的意义。[16]分别对较低氧分压反应磁控溅射制备的 薄膜进行氧化性气氛和惰性气氛退火。通过XRD和SEM 分析,发现氧化性气氛退火薄膜为表面多孔的金红石结构 ,而惰性气氛退火薄膜表面较为致密,结构分析不仅观察到金红石结构的 ,还发现了四方结构的 。XPS表面分析进一步表明,氧化性气氛退火后,薄膜成分单一,未氧化的 完全氧化成稳定的 ,而且具有稳定结构的 薄膜表面吸附水很少。相对而言,惰性气氛退火后,薄膜表面 、 和 共存,表面化学吸附氧和吸附水较明显,薄膜的稳定性降低。[17]  6 FTO导电玻璃制备相关参数  根据范志新等所提出的理论表达式: 带入相关数据可得到,SnO2:F(FTO)的最佳掺杂含量为54%[18]通过对比总结,参考大量数据,选择溅射功率:100W,溅射压力:5Pa,溅射时间:5h,溅射靶距:38mm[13、19]做产品。进行相关参数的选择与优化。  7 参考文献  1、张志海, 热解法制备氟掺杂二氧化锡导电薄膜及其性能研究 合肥工业大学  2、汪振东, 玻璃基TiO<,2>-SiO<,2>/SnO<,2>:F薄膜的喷雾热分解法制备和表征 武汉理工大学  3、郝喜红, 喷雾热解法制备掺杂二氧化锡导电薄膜 西安建筑科技大学  4、张明福等, 透明导电氧化物薄膜研究的新进展 压电与声光  5、方俊 杨万莉, n型透明导电氧化物薄膜的研究新进展 陶瓷  6、苗莉等, SnO2:F导电薄膜的制备方法和性能表征 材料导报  7、Yadav A A,Masumdar E U,Moholkar A V,et a1.Effect of quantity of spraying solution on the properties of spray deposited fluorine doped tin oxide thin films[J].Physiea B:Condensed Matter,2009,404(12—13):1874 - 1877.  8、Moholkar A V,Pawar S M,Rajpure K Y,et a1.Effect of fluorine doping on highly transparent conductive spray deposited nanocrystalline tin oxide thin films[J].Applied Surface Science,2009,255(23):9358—9364.  9、Dai S,Wang K,Weng J,et a1.Design of DSC panel with efficiency more than 6%[J1.Solar Energy Materials and Solar Ceils,2005,85(3):447—455.  10、Huo Z,Dai S,Wang K,et a1.Nanocomposite gel electrolyte with large enhanced charge transport properties of an 13-/I- redox couple for quasi-solid-state dye-sensitized solar cells[J].Solar Energy Materials and Solar Cells,2007,91(20):1959-1965.  11、王璟和,射频溅射法制备透明导电陶瓷薄膜 天津大学  12、姜磊等, 染料敏化太阳电池研究进展 内蒙古大学学报(自然科学版)  13、曾志峰等, 射频溅射法制备掺杂SnO2纳米薄膜的研究 武汉大学学报(理学版)  14、段理、樊小勇等, 磁控溅射制备银掺杂 薄膜结构及光电性质研究 材料导报(研究篇)  15、SunLL,TanO K,ZhuW G,et a1.Pb(Zro 3Ti0. 7)03/Pb-TiO3 multilayer thin films for pyroelectric infrared sensorapplication[J].J Appl Phys,2006,99(9):09410  16、顾锦华、钟志有等, 真空退火处理对光敏薄膜及聚合物太阳电池性能的影响 中南民族大学学报(自然科学版)  17、王磊、杜军等, 退火气氛对SnO2薄膜结构与成分的影响 材料导报  18、范志新等, 二氧化锡薄膜的最佳掺杂含量理论表达式 电子器件  19、刘庆业等, 射频溅射法研制SnO2纳米薄膜 广西师范大学学报(自然科学版)

幸福校园论文网站,有一篇,你看看对你有帮助吗?基于NIOSⅡ的红外抄表系统[目录]1 设计概述2 功能描述3 性能参数4 硬件系统设计5 软件系统设计6 设计特点7 总 结 8 前景展望9 参考文献10 附 录[原文]1 设计概述目前,全国各大城市的电力行业大多数仍然沿袭着传统的人工抄表方式,随着用户数的快速发展,人工抄表的一系列弊端逐渐暴露出来。为了提高抄表的质量、效率,减轻抄表工人的劳动强度,利用日渐发展成熟的科学技术,开始着手对纯人工抄表方式进行改进和试点。利用ALTERA芯片串行通信原理和红外无线通信技术,开发设计了基于FPGA的编解码红外无线通信接口。应用微电子技术,通过规定的通信协议,利用 NIOSⅡ嵌入式处理器将需要抄录的表(如:电表,水表等)的数据接收到手持抄表器中,并可将数据保存到抄表器的Flash中。应用于抄表系统中的红外串行通信接口,具有硬件电路简单、成本低廉、编程方便、通信可靠性高的特点。利用手持抄表器可以方便地完成对电度表的抄录和校准等工作,大大提高了抄表工作的效率,而且抄表准确度高并杜绝了估抄和误抄的问题。采用嵌入32位NIOSⅡ软核处理器能使抄表器高度集成化,利用NIOSⅡ强大的运算能力完全能够实现对红外电路的发射和接收数据进行处理,同时,在PC上开发的算法和C语言程序能够快速移植到NIOSⅡ处理器上,大大缩短了整个系统的开发周期。Altera提供的SOPC Builder不仅可以创建和配置用户的NIOSⅡ,还可以添加自定义IP核,构成更加强大的SOC系统,再加上与CycloneⅡ最完美的组合使设计出来的产品具有极高的性价比,其市场是不可低估的,带来的经济效益是不可估量的。2 功能描述1 系统基本方案1 系统的基本功能(1) 红外抄表系统通过用户拨动开关输入所要查询红外电表的ID。(2)将电表发出的信息进行接收、处理并将其存入Flash中,其中信息包括年、月、日、小时、ID号、电量。(3)从Flash中读取信息并显示在LCD上。2 系统的组成部分本系统主要由红外抄表器和红外电表两部分组成。红外抄表器的硬件设计框图如图1所示[参考资料][1]王 诚,吴继华,范丽珍,薛 宁,薛小刚Altera FPGA/CPLD设计(基础篇)[M]北京:人民邮电出版社,[2]吴继华,王 诚 Altera FPGA/CPLD设计(高级篇)[M]北京:人民邮电出版社,[3]王建校,危建国SOPC设计基础与实践[M]西安:西安电子科技大学出版社,[4]任爱锋,初秀琴,常 存,孙肖子基于FPGA的嵌入式系统设计[M]西安:西安电子科技大学出版社,[5]王 钿,卓兴旺基于Verilog HDL的数字系统应用设计[M]北京:国防工业出版社,[6]江国强EDA技术与应用[M]北京:电子工业出版社,[7]宋万杰,落 丰,吴顺君CPLD技术及其应用[M]西安:西安电子科技大学出版社,[8]赵曙光,郭万有,杨颂华可编程逻辑器件原理、开发与应用西安: 西安电子科技大学出版社,[9]张 兴,黄 如,刘晓彦微电子学概论[M]北京:北京大学出版社,[10]李广军,王厚军实用接口技术[M]成都: 电子科技大学出版社,

如果你不知道如何写,但是又急着交。一个非常简便的方法,就是去知网上面找你要写的那方面的硕士论文,上面有完整的文献综述(那最好,你稍稍改动即可),如果是开题报告形式,你就可以找好它上面的内容(其实跟文献综述写的内容差不多,只是格式和形式不太一样)。你按照以下的提纲自己复制粘贴内容即可(我们这学期写了一篇文献综述),也有可能每个学校的要求提纲不太一样,不过都是差不多的不用太担心,主要是内容要找准: 论文题目:一般不超过25个字,要简练准确,副标题统一为“文献综述及研究思路”可分两行书写; 摘要:中文摘要字数应在300字左右,英文摘要与中文摘要内容要相对应; 关键词:关键词以3—5个为宜,应该尽量从《汉语主题词表》中选用,分号隔开; 正文:正文要符合一般学术论文的写作规范,内容层次分明,数据可靠,文字简练,观点正确,能运用现代经济学、管理学的分析方法,并能学会利用计量经济学、统计学等相关工具对所涉及的问题进行分析,文章主体字数为4000字以上。正文基本结构如下: 一、选题背景及选题意义 二、有关国内外研究成果综述 (一)国外研究成果 (二)国内研究成果 (三)对研究成果的评述(这个地方就不要把引用的写出来了,我被我们老师就批了) 三、基本研究思路(最好有图,把你参考的文章所有的提纲画一个简易图即可,不单是自己的文献综述,是你参考的整篇论文的内容) 四、研究方法及创新处 参考文献:参考文献应按文中引用出现的顺序列出,只列出作者直接阅读过、在正文中被引用过的文献资料,一律列在正文的末尾,特别在引用别人的科研成果时,应在引用处加以说明。每篇论文的参考文献一般不应少于五条。 希望对你有用~~

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