郑有炓长期致力于半导体异质结构材料、器件及物理研究,在III 族氮化物异质结构、锗硅异质结构、和硅基纳米结构材料及其器件应用的研究上,取得系列创新成果,跻身于国际前列。 郑有炓总结当时半导体所用的新技术,发展了锗硅异质结构材料光辐射加热超低压CVD生长方法,自己设计、利用南京工厂的加工条件,研制出一套计算机控制的生长设备,制备出优质锗硅异质结构材料。他紧抓住半导体科学技术发展的前沿热点,结合承担的国家863计划、攀登计划、973项目及国家自然科学基金等科研任务。带领研究生组开展一系列研究,在锗硅、Ⅲ族氮化物和氧化锌宽带隙半导体研究领域里,支撑起一片属于南大、属于中国的天地。在锗硅、Ⅲ族氮化物异质结构研究中,发展了生长锗硅、Ⅲ族氮化物异质结构材料的新方法、新技术,从极化能带级带工程出发,创新发展了多种新器件;提出并实现了铁电体/氮化镓、铁磁体/半导体异质结构新体系;发现锗硅合金应变诱导有序化新结构,提出新模型;揭示Ⅲ族氮化物异质结构极化、二维电子气及其相关性质;观测到碲化镉/锑化铟异质结构二维电子气及占据子带规律,开拓Ⅱ-Ⅵ/Ⅲ-Ⅴ族异质体系二维电子气研究领域;提出基于锗硅技术实现二氧化硅/硅界面量子限制硅纳米结构。 1、测量MOS结构界面特性的变频C-V法,南京大学学报,26,2,212,19902、测量金属-半导体界面态的肖特基电容谱技术,电子测量与仪器学报,3,1,12,19893、GaInAs/Al2O3的界面研究,半导体学报,10,10,19894、N-沟增强型InPMISFET研究,半导体学报,9,3,19885、导电聚合物P3MT的荧光谱,物理学报,37,3,19886、聚乙炔半导体热激电流谱研究,半导体学报,9,6,19887、计算机控制和处理的深能级瞬态谱研究,电子学保,16,4,19888、GaInAs/InP异质结二维电子气,半导体学报,8,5,19879、PECVDSiO2-InPMIS结构研究,固态电子学研究与进展,7,3,198710、注硅InP的包封与无包封热退火,固态电子系研究与进展,7,1,198711、SiO2/InPMIS结构界面态和体深能级研究,南京大学学报,22,4,198612、PECVDSiO2/InP结构的AES和XPS分析,南京大学学报,22,4,198613、分子束外延生长CdTe/InSb异质结输运性质研究,半导体物理与教学,209,198614、用椭偏光学方法研究GeSi超晶格结构,半导体学报,199215、GaAs/Si异质外延的新进展,,11,4,324,199116、GeSi/Si异质界哦故的近红外吸收光谱测量,半导体光电,12,4,399,199117、RRH/VLP-CVD低温外延硅薄膜电学性质,半导体学报,12,7,199118、用椭偏光学方法研究GexSi1-x/Si超晶格结构,半导体学报,199219、G47I53As/SiO2与G47I53As/Al2O3的界面性质,半导体学报,10,10,198920、锗硅基区异质结双极型晶体管(GeSi-HBT)的研制,固体电子学研究与进展,12,4,199221、锗硅应变层超晶格生长研究,物理学进展,1,199322、SiGe/Si应变层超晶格量子阱微结构材料的生长与掺杂技术,锗硅应变层超晶格材料与器件应用(国家科委信息领域办,863光电子主题专家组出版)23、SiGe/Si应变层超晶格量子阱材料的优化设计及新器件的发展展望,锗硅应变层超晶格材料与器件应用(国家科委信息领域办,863光电子主题专家组出版)24、Si基GaN的微结构表征,光散射学报2003,15(4)25、用MOCVD方法制备的GaN1-xPx三元合金的喇曼与红外光谱,半导体学报2004,25(1)26、耦合双量子点中基态电子的隧穿特性,半导体学报2004,25(1)27、p沟道锗/硅异质纳米结构MOSFET存储器及其逻辑阵列,半导体学报2004,25(2)28、AlGaN/GaN异质结构欧姆接触的研制,固体电子学研究与进展2004,24(1)36、蓝宝石衬底上6H-SiC单晶薄膜的化学气相淀积生长,功能材料2004,35(2)29、Zn1-xMgxO薄膜的低压MOCVD生长与性质,半导体学报2004,25(7)30、ZnO纳米岛的MOCVD自组装生长,半导体学报2004,25(7) 1、HestructureandpropertyofSiGe/Siquantumwells,1993Materialsresearchsocietyspringmeeting,SanFrancisco,19932、RamanscatteringspectroscotyofGeSi/Sistrainedlayersuperlattice,1993Materialsresearchsocietyspringmeeting,SanFrancisco,19933、NovelPhotocurrentResponefoaporoussilicon,1993Materialsresearchsocietyspringmeeting,SanFrancisco,19934、PhaseformationandGesegregationinthethremalreactionbetweenPtandGeSi/SiHetewostructure,1993Materialsresearchsocietyspringmeeting,SanFrancisco,19935、StudyofGemovementduringthermalreactionsbetweenPtandGe/Siheterostructures,Alett,62,25,19936、InfluenceofPolarizationEffectsontheEnergyBandofAlGaN/GaN/AlGaNHeterostructures,ChinesePhysicsLetters(中国物理快报:英文版)2004,21(4) 1、1991-1995 负责国家八六三计划项目”GeSi超晶格材料与应用“2、1991-1995 负责国家重大基础研究项目“GeSi超晶格材料生长、物性和器件开发”3、1992-1994 负责国防科工委项目“GeSi红外探测器”4、1992-1994 负责国家自然科学基金项目“GeSi基区异质结晶体管研究”5、1991-1995 负责省科委项目“GeSi材料与器件研究开发”6、1991-1992 负责省科委项目“新型GeSi红外探测器研究”7、1993-1995 负责国家高技术863计划项目“应变层结构GeSi/Si的稳定性及其改善对策研究”8、1993-1995 负责国家高技术863计划项目“GeSi/Si异质结构材料生长研究”9、1993-1995 指导国家教委博士点基金项目“GeSi/Si超晶格材料表征研究”10、1993-1995 指导南京大学基金项目“GeSi/Si超晶格选择外延研究”11、1993-1995 负责江苏省科委项目“新型GeSi材料与器件研究开发 1、1991 “快速辐射加热,超低压化学气相淀积原子级外延方法与系统”通过国家科委鉴定2、1990 “半导体界面测试的变频C-V技术”通过江苏省科委鉴定3、1990 “一种获得半导体异质结与超晶格材料的方法及设备”获中国专利局发明专利,专利号:04、1990 “半导体界面态变频C-V测量仪”获国家专利,专利号:902275085、1992 一种获得低表面分凝Si-GeSi异质结构外延生长方法”获国家专利,专利号:5(以上资料来源 )